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　　超純水裝置EDI模塊在運(yùn)行一段時間后，隨著工作時間的累積，就需要對EDI膜裝置進(jìn)行清洗及消毒，這樣才能確保水質(zhì)純度及設(shè)備的長久使用。

　　EDI膜物理清洗特點(diǎn)

　　一般EDI膜裝置的清洗分為物理清洗、化學(xué)清洗和生物清洗三種方式。

　　物理清洗是利用高流速的水或空氣和水的混合流體沖洗膜表面，這種方法具有不引入新污染物，清洗步驟簡單等特點(diǎn)，但此法對污染初期的膜有效，清洗效果不能持久。

　　EDI膜裝置清洗條件

　　EDI裝置什么時候需要清洗呢?有以下情形之一需清洗EDI膜裝置。

　　(1)溫度和流量不變，產(chǎn)水壓降增加40%;

　　(2)溫度和流量不變，濃水壓降增加40%;

　　(3)溫度、流量、電流、和進(jìn)水相當(dāng)電導(dǎo)率不變，產(chǎn)水質(zhì)量降低;

　　(4)溫度和流量不變，膜堆的電阻增加25%。

　　EDI膜裝置物理清洗方法

　　常見的物理清洗方法通常有低壓高流速清洗、反向清洗及這兩者的聯(lián)用。

　　低壓高流速清洗即在較低的操作壓力下盡可能地加大膜面流速流速，使得溶質(zhì)分子在膜面停留的概率降低，另一方面減料液與膜面之間的濃差極化。

　　反向清洗即通過在膜的透過液一側(cè)施加壓力，使透過液反向透過膜。此法一方面可以沖掉堵塞在膜孔內(nèi)的污染物，另一方面對料液側(cè)膜表面的附著層也有著一定的沖洗作用。

　　所謂膜的負(fù)壓清洗是在膜的功能面造成負(fù)壓，即低于大氣壓的壓力下使膜面和膜內(nèi)部的污染物脫落。此法的一般清洗特點(diǎn)是，在清洗時，使膜組件接在泵的吸程上，造成膜的功能面壓力低于大氣壓，而膜的另一面為大氣壓，從而使透過液逆流透過膜來清洗膜面和膜孔內(nèi)的污染物，這與反向清洗既有相同之處又有不同之處。