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EDI膜裝置清洗法-物理清洗
發(fā)布時間:2022-11-22
超純水裝置EDI模塊在運(yùn)行一段時間后,隨著工作時間的累積,就需要對EDI膜裝置進(jìn)行清洗及消毒,這樣才能確保水質(zhì)純度及設(shè)備的長久使用。
EDI膜物理清洗特點(diǎn)
一般EDI膜裝置的清洗分為物理清洗、化學(xué)清洗和生物清洗三種方式。
物理清洗是利用高流速的水或空氣和水的混合流體沖洗膜表面,這種方法具有不引入新污染物,清洗步驟簡單等特點(diǎn),但此法對污染初期的膜有效,清洗效果不能持久。
EDI膜裝置清洗條件
EDI裝置什么時候需要清洗呢?有以下情形之一需清洗EDI膜裝置。
(1)溫度和流量不變,產(chǎn)水壓降增加40%;
(2)溫度和流量不變,濃水壓降增加40%;
(3)溫度、流量、電流、和進(jìn)水相當(dāng)電導(dǎo)率不變,產(chǎn)水質(zhì)量降低;
(4)溫度和流量不變,膜堆的電阻增加25%。
EDI膜裝置物理清洗方法
常見的物理清洗方法通常有低壓高流速清洗、反向清洗及這兩者的聯(lián)用。
低壓高流速清洗即在較低的操作壓力下盡可能地加大膜面流速流速,使得溶質(zhì)分子在膜面停留的概率降低,另一方面減料液與膜面之間的濃差極化。
反向清洗即通過在膜的透過液一側(cè)施加壓力,使透過液反向透過膜。此法一方面可以沖掉堵塞在膜孔內(nèi)的污染物,另一方面對料液側(cè)膜表面的附著層也有著一定的沖洗作用。
所謂膜的負(fù)壓清洗是在膜的功能面造成負(fù)壓,即低于大氣壓的壓力下使膜面和膜內(nèi)部的污染物脫落。此法的一般清洗特點(diǎn)是,在清洗時,使膜組件接在泵的吸程上,造成膜的功能面壓力低于大氣壓,而膜的另一面為大氣壓,從而使透過液逆流透過膜來清洗膜面和膜孔內(nèi)的污染物,這與反向清洗既有相同之處又有不同之處。