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EDI膜裝置清洗法-化學(xué)清洗

發(fā)布時(shí)間:2022-11-22

  超純水裝置EDI模塊在運(yùn)行一段時(shí)間后,隨著工作時(shí)間的累積,就需要對EDI膜裝置進(jìn)行清洗及消毒,這樣才能確保水質(zhì)純度及設(shè)備的長久使用。

  EDI膜裝置化學(xué)清洗特點(diǎn)

  一般EDI膜裝置的清洗分為物理清洗、化學(xué)清洗和生物清洗三種方式。

  化學(xué)清洗耳恭聽是在水流中加入某種合適的化學(xué)藥劑,連續(xù)清洗。此法能清除復(fù)合污垢,迅速恢復(fù)膜通量。才能確保水質(zhì)純度及設(shè)備的長久使用。

  EDI膜裝置化學(xué)清洗方法

  EDI裝置在實(shí)際運(yùn)行中,對于污染嚴(yán)重的膜,僅靠物理清洗很難使膜通量完全恢復(fù),必須借助于化學(xué)清洗?;瘜W(xué)清洗劑的選擇應(yīng)根據(jù)膜污染物的類型,污染程度以及膜的物理化學(xué)物特性來進(jìn)行,清洗劑可單獨(dú)使用,也可復(fù)合使用。

EDI膜裝置

 

  EDI膜化學(xué)清洗藥劑

  單個(gè)膜塊清洗時(shí)藥液配用量:

  1.酸洗溫度15-25℃

  2、堿洗溫度25-30℃

  3、配藥液用水必須是RO產(chǎn)水或高于RO產(chǎn)水的去離子水。

  1.0t/h80L、2.0t/h110L、3.0t/h150L、5.0t/h200L

  對于膜塊數(shù)量大于1塊時(shí),按表中配液的數(shù)量乘以膜塊數(shù)量。

  EDI膜塊再生

  確認(rèn)EDI膜塊內(nèi)沒有任何的化學(xué)藥品殘留存在。

  使系統(tǒng)構(gòu)建成一個(gè)閉路自循環(huán)管路。

  按照正常運(yùn)行的模式調(diào)節(jié)好所有的流量和壓力。

  給EDI送電,調(diào)節(jié)電流從1A開始分步緩慢向EDI加載電流(最大不能超過6A)。

  直至產(chǎn)水電阻率達(dá)工藝要求到或者≥14.5MΩ.cm。

  提示:膜塊的再生是一個(gè)比較長的時(shí)間,有時(shí)可能會長達(dá)10-24小時(shí)甚至更長的時(shí)間。

  EDI水處理設(shè)備在使用一段時(shí)間后,必須進(jìn)行設(shè)備的清洗與檢修,以保證出水質(zhì)量。

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